Выпуски

 / 

2019

 / 

том 17 / 

выпуск 3

 



Завантажити повну версію статті (в PDF форматі)

O. M. Bordun, B. O. Bordun, I. Yo. Kukharskyy, I. I. Medvid, I. S. Zvizlo, and D. S. Leonov
«Influence of the Obtaining Conditions on the Photoconductivity of Thin \(\beta-Ga_2O_3\) Films»
0483–0490 (2019)

PACS numbers: 61.72.jd, 68.55.J-, 73.50.Pz, 73.61.Ng, 78.55.-m, 81.15.Gh, 81.40.Tv

Досліджено фотопровідність тонких плівок \(\beta-Ga_2O_3\), одержаних методою високочастотного йонно-плазмового розпорошення, залежно від умов одержання. Встановлено, що найбільша величина струму фотопровідности спостерігається у свіжонанесених плівках і зменшується при відновленні плівок в атмосфері водню, при відпалі в атмосфері арґону і особливо кисню. Проведено аналізу спектрального зміщення максимуму спектру збудження фотопровідности залежно від атмосфери термооброблення.

Keywords: gallium oxide, thin films, photoconductivity


References
1. K. Matsuzaki, H. Yanagi, T. Kamiya, H. Hiramatsu, K. Nomura, M. Hirano, and H. Hosono, Appl. Phys. Lett., 88, No. 9: 092106 (2006). https://doi.org/10.1063/1.2179373
2. N. D. Cuong, Y. W. Park, and S. G. Yoon, Sensors and Actuators B, 140, No. 1: 240 (2009). https://doi.org/10.1016/j.snb.2009.04.020
3. M. Orita, H. Ohta, M. Hirano, and H. Hosono, Appl. Phys. Lett., 77, No. 25: 4166 (2000). https://doi.org/10.1063/1.1330559
4. J.-G. Zhao, Z.-X. Zhang, Z.-W. Ma, H.-G. Duan, X.-S. Guo, and E.-Q. Xie, Chinese Phys. Lett., 25, No. 10: 3787 (2008).
5. Y. Tokida and S. Adachi, Jpn. J. Appl. Phys., 52, No. 10R: 101102 (2013). https://doi.org/10.7567/JJAP.52.101102
6. P. Wellenius, A. Suresh, J. V. Foreman, H. O. Everitt, and J. F. Muth, Mater. Sci. Eng. B, 146: 252 (2008).
7. T. Minami, T. Shirai, T. Nakatani, and T. Miyata, Jpn. J. Appl. Phys., 39, No. 6A: L524 (2000). https://doi.org/10.1143/JJAP.39.L524
8. O. M. Bordun, I. Yo. Kukharskyy, B. O. Bordun, and V. B. Lushchanets, J. Appl. Spectrosc., 81, No. 5: 771 (2014). https://doi.org/10.1007/s10812-014-0004-9
9. S. J. Pearton, J. Yang, P. H. Cary IV, F. Ren, J. Kim, M. J. Tadjer, and M. A. Mastro, Appl. Phys. Rev., 5, No. 1: 011301 (2018). https://doi.org/10.1063/1.5006941
10. I. B. Vendik, A. N. Ermolenko, V. V. Esipov, B. M. Pchelkin, and M. F. Sitnikova, Zhurn. Tekhn. Fiz., 58, No. 12: 2323 (1988) (in Russian).
11. W. Sinkler, L. D. Marks, D. D. Edwards, T. O. Mason, K. R. Poeppelmeier, Z. Hu, and J. D. Jorgensen, J. Solid State Chem., 136, No. 1: 145 (1998). https://doi.org/10.1006/jssc.1998.7804
12. V. I. Vasyltsiv, Ya. I. Rym, and Ya. M. Zakharko, phys. status solidi (b), 195, No. 2: 653 (1996). https://doi.org/10.1002/pssb.2221950232
13. V. V. Tokii, V. I. Timchenko, and V. A. Soroka, Phys. of Sol. State, 45, No. 4: 600 (2003). https://doi.org/10.1134/1.1568996
14. T. V. Blank and Yu. A. Gol dberg, Semiconductors, 41, No. 11: 1281 (2007). https://doi.org/10.1134/S1063782607110012
15. O. M. Bordun, V. G. Bihday, and I. Yo. Kukharskyy, J. Appl. Spectrosc., 80, No. 5: 721 (2013). https://doi.org/10.1007/s10812-013-9832-2
16. L. Binet and D. Gourier, J. Phys. Chem. Solids, 59, No. 8: 1241 (1998). https://doi.org/10.1016/S0022-3697(98)00047-X
17. K. Shimamura, E. G. V llora, T. Ujiie, and K. Aoki, Appl. Phys. Lett., 92, No. 20: 201914 (1) (2008). https://doi.org/10.1063/1.2910768
18. G. Guzman-Navarro, M. Herrera-Zaldivar, J. Valenzuela-Benavides, and D. Maestre, J. Appl. Phys., 110, No. 3: 034315 (2011). https://doi.org/10.1063/1.3620986
19. O. M. Bordun, B. O. Bordun, I. Yo. Kukharskyy, and I. I. Medvid, J. Appl. Spectrosc., 84, No. 1: 46 (2017). https://doi.org/10.1007/s10812-017-0425-3
20. O. M. Bordun, B. O. Bordun, I. I. Medvid, and I. Yo. Kukharskyy, Acta Physica Polonica, 134, No. 4: 910 (2018). https://doi.org/10.12693/APhysPolA.133.910
21. O. M. Bordun, I. Yo. Kukharskyy, B. O. Bordun, and V. B. Lushchanets, Phys. and Chem. of Sol. State, 16, No. 2: 302 (2015). https://doi.org/10.15330/pcss.16.1.74-78
22. S. K. Sampath and J. F. Cordaro, J. Am. Ceram. Soc., 81, No. 3: 649 (1998). https://doi.org/10.1111/j.1151-2916.1998.tb02385.x
23. F. Litimein, D. Rached, R. Khenata, and H. Baltache, J. Alloys Comp., 488, No. 1: 148 (2009). https://doi.org/10.1016/j.jallcom.2009.08.092
24. M. Michling and D. Schmei er, IOP Conf. Ser.: Mater. Sci. Eng., 34: 012002 (2012). https://doi.org/10.1088/1757-899X/34/1/012002
25. H. H. Tippins, Phys. Rev., 140, No. 1A: A316 (1965). https://doi.org/10.1103/PhysRev.140.A316
Creative Commons License
Усі статті ліцензовано на умовах Ліцензії Creative Commons із зазначенням авторства — без похідних 4.0 Міжнародна
© НАНОСИСТЕМИ, НАНОМАТЕРІАЛИ, НАНОТЕХНОЛОГІЇ Інститут металофізики ім. Г. В. Курдюмова НАН України, 2019
© O. M. Bordun, B. O. Bordun, I. Yo. Kukharskyy, I. I. Medvid, I. S. Zvizlo, and D. S. Leonov, 2019

Електрона пошта: tatar@imp.kiev.ua Телефони та адреса редакції Про збірник Угода користувача