 |
|||||||||
 |
2019, том 17, выпуск 2 |
|
|||||||
|
|||||||||
Выпуски/2019/том 17 /выпуск 2 |
O. M. Bordun, I. O. Bordun, I. I. Kukharskyi, I. I. Medvid, Zh. Ia. Tsapovska, D. S. Leonov
«Features of Deposition and Formation of the Structure of Y2O3:Eu Thin Films Obtained by Radio-Frequency Sputtering»
0353–0360 (2019)
PACS numbers: 34.35.+a, 68.49.Sf, 68.55.Ln, 78.70.Gq, 79.20.Rf, 81.15.Cd, 81.15.Jj
Досліджено структуру, морфологію поверхні й особливості нанесення тонких плівок Y2O3:Eu при високочастотному йонно-плазмовому розпорошенні. Встановлено наявність оптимального тиску робочого газу, величина якого визначається складом газу і геометричними параметрами та за якого швидкість нанесення плівок є максимальною. Досліджено вплив складу робочого газу на швидкість нанесення плівок Y2O3:Eu.
Keywords: yttrium oxide, thin films, crystallites
References
1. N. Yamamoto, Cathodoluminescence (Croatia: InTech: 2012). https://doi.org/10.5772/19892. A. S. Bugaev, V. B. Kireev, E. P. Sheshin, and A. Yu. Kolodyazhny, Uspekhi Fiz. Nauk, 185, No. 8: 853 (2015) (in Russian). https://doi.org/10.3367/UFNr.0185.201508e.0853
3. O. M. Bordun, I. M. Bordun, and S. S. Novosad, J. Appl. Spectroscopy, 62, No. 6: 1060 (1995).
4. Q. Dai, M. E. Foley, C. J. Breshike, A. Lita, and G. F. Strouse, J. Am. Chem. Soc., 133, No. 39: 15475 (2011). https://doi.org/10.1021/ja2039419
5. C. Shanga, X. Shang, Y. Qu, and M. Li, Chem. Phys. Lett., 501, Nos. 4–6: 480 (2011). https://doi.org/10.1016/j.cplett.2010.11.085
6. P. Packiyaraj and P. Thangadurai, J. Lumin., 145: 997 (2014). https://doi.org/10.1016/j.jlumin.2013.07.074
7. O. M. Bordun, I. O. Bordun, I. Yo. Kukharskyy, Zh. Ya. Tsapovska, and M. V. Partyka, J. Appl. Spectroscopy, 84, No. 6: 1072 (2018). https://doi.org/10.1007/s10812-018-0589-5
8. E. V. Berlin and L. A. Seidman, Ionno-Plazmennyye Protsessy v Tonkoplyonochnoy Tekhnologii [Ion-Plasma Processes in Thin-Film Technology] (Moscow: Tekhnosfera: 2010) (in Russian).
9. H. Kajikawa, Y. Fukumoto, S. Hayashi, K. Shibutani, R. Ogawa, and Y. Kawate, IEEE Transaction on Magnetics, 27, No. 2: 1422 (1991). https://doi.org/10.1109/20.133451
10. G. Betz and G. K. Wehner, Raspyleniye Tvyordykh Tel Ionnoy Bombardirovkoy [Sputtering of Solids by Ion Bombardment] (Ed. R. Behrish) (Moscow: Mir: 1986), vol. 2, p. 24 (in Russian).
11. K. Meyer, I. K. Schuller, and C. M. Faiko, J. Appl. Phys., 52, No. 9: 5803 (1981). https://doi.org/10.1063/1.329473
12. H. Mase, T. Tanabe, and G. Miyamoto, J. Appl. Phys., 50, No. 5: 3684 (1979). https://doi.org/10.1063/1.326297
13. Ch. Park, M. Bujor, and H. Poppa, Thin Solid Films, 113: 337 (1984). https://doi.org/10.1016/0040-6090(84)90473-5
14. S. Som, S. K. Sharma, and S. P. Lochab, Mater. Res. Bull., 48, No. 2: 844 (2013). https://doi.org/10.1016/j.materresbull.2012.11.079
 Усі статті ліцензовано на умовах Ліцензії Creative Commons із зазначенням авторства — без похідних 4.0 Міжнародна ©2003—2021 НАНОСИСТЕМЫ, НАНОМАТЕРИАЛЫ, НАНОТЕХНОЛОГИИ Институт металлофизики им. Г.В. Курдюмова Национальной Академии наук Украины. Електрона пошта: tatar@imp.kiev.ua Телефони та адреса редакції Про збірник Угода користувача |