Скачать полную версию статьи (в PDF формате)
O. M. Bordun, I. O. Bordun, I. I. Kukharskyi, I. I. Medvid, Zh. Ia. Tsapovska, D. S. Leonov
«Features of Deposition and Formation of the Structure of Y2O3:Eu Thin Films Obtained by Radio-Frequency Sputtering»
0353–0360 (2019)
PACS numbers: 34.35.+a, 68.49.Sf, 68.55.Ln, 78.70.Gq, 79.20.Rf, 81.15.Cd, 81.15.Jj
Исследованы структура, морфология поверхности и особенности нанесения тонких плёнок Y2O3:Eu при высокочастотном ионно-плазменном распылении. Установлено наличие оптимального давления рабочего газа, величина которого определяется составом газа и геометрическими параметрами и при котором скорость нанесения плёнок является максимальной. Исследовано влияние состава рабочего газа на скорость нанесения плёнок Y2O3:Eu.
Keywords: yttrium oxide, thin films, crystallites
References
1. N. Yamamoto, Cathodoluminescence (Croatia: InTech: 2012). https://doi.org/10.5772/1989
2. A. S. Bugaev, V. B. Kireev, E. P. Sheshin, and A. Yu. Kolodyazhny, Uspekhi Fiz. Nauk, 185, No. 8: 853 (2015) (in Russian). https://doi.org/10.3367/UFNr.0185.201508e.0853
3. O. M. Bordun, I. M. Bordun, and S. S. Novosad, J. Appl. Spectroscopy, 62, No. 6: 1060 (1995).
4. Q. Dai, M. E. Foley, C. J. Breshike, A. Lita, and G. F. Strouse, J. Am. Chem. Soc., 133, No. 39: 15475 (2011). https://doi.org/10.1021/ja2039419
5. C. Shanga, X. Shang, Y. Qu, and M. Li, Chem. Phys. Lett., 501, Nos. 4–6: 480 (2011). https://doi.org/10.1016/j.cplett.2010.11.085
6. P. Packiyaraj and P. Thangadurai, J. Lumin., 145: 997 (2014). https://doi.org/10.1016/j.jlumin.2013.07.074
7. O. M. Bordun, I. O. Bordun, I. Yo. Kukharskyy, Zh. Ya. Tsapovska, and M. V. Partyka, J. Appl. Spectroscopy, 84, No. 6: 1072 (2018). https://doi.org/10.1007/s10812-018-0589-5
8. E. V. Berlin and L. A. Seidman, Ionno-Plazmennyye Protsessy v Tonkoplyonochnoy Tekhnologii [Ion-Plasma Processes in Thin-Film Technology] (Moscow: Tekhnosfera: 2010) (in Russian).
9. H. Kajikawa, Y. Fukumoto, S. Hayashi, K. Shibutani, R. Ogawa, and Y. Kawate, IEEE Transaction on Magnetics, 27, No. 2: 1422 (1991). https://doi.org/10.1109/20.133451
10. G. Betz and G. K. Wehner, Raspyleniye Tvyordykh Tel Ionnoy Bombardirovkoy [Sputtering of Solids by Ion Bombardment] (Ed. R. Behrish) (Moscow: Mir: 1986), vol. 2, p. 24 (in Russian).
11. K. Meyer, I. K. Schuller, and C. M. Faiko, J. Appl. Phys., 52, No. 9: 5803 (1981). https://doi.org/10.1063/1.329473
12. H. Mase, T. Tanabe, and G. Miyamoto, J. Appl. Phys., 50, No. 5: 3684 (1979). https://doi.org/10.1063/1.326297
13. Ch. Park, M. Bujor, and H. Poppa, Thin Solid Films, 113: 337 (1984). https://doi.org/10.1016/0040-6090(84)90473-5
14. S. Som, S. K. Sharma, and S. P. Lochab, Mater. Res. Bull., 48, No. 2: 844 (2013). https://doi.org/10.1016/j.materresbull.2012.11.079
|