 |
|||||||||
 |
2018, том 16, выпуск 4 |
|
|||||||
|
|||||||||
Выпуски/2018/том 16 /выпуск 4 |
D. O. Shuliarenko, I. M. Pazukha, O. V. Pylypenko, and L. V. Odnodvorets’
«Structural–Phase State and Electrophysical Properties of Thin-Film Systems Based on Permalloy and Silver»
0633–0644 (2018)
PACS numbers: 68.37.Lp, 68.55.jd, 68.55.Nq, 68.60.Dv, 73.50.Lw, 73.61.At, 81.15.Ef
Представлено експериментальні результати стосовно структурно-фазового стану й електрофізичних властивостей плівкових систем на основі пермалою та срібла, одержаних методою одночасної конденсації компонентів. Одержано концентраційні залежності питомого опору, термічного коефіцієнта опору, а також концентраційну залежність температури заліковування дефектів у системі. Показано, що зміна концентрації атомів немагнетного матеріялу в діяпазоні від 20 до 85 ат.% приводить до появи мінімуму або максимуму на залежностях ?(сAg) і ?(сAg) відповідно, що пов’язане зі змінами у кристалічній структурі зразків.
Keywords: thin-film alloy, co-evaporation, resistivity, temperature coefficient of resistance, temperature of the healing of defects, concentration dependences
References
1. Y. Jiang, S. Yao, and W. Zhang, Thin Solid Films, 516: 3210 (2008). https://doi.org/10.1016/j.tsf.2007.12.1092. K. Zhao, Y. Xing, J. Han, J. Feng, W. Shi, B. Zhang, and Z. Zeng, J. Magn. Magn. Mater., 432: 10 (2017). https://doi.org/10.1016/j.jmmm.2017.01.066
3. B. B. Singh, S. Chaudhary, and D.K. Pandya, Mater. Res. Bull., 47, No. 11: 3786 (2012). https://doi.org/10.1016/j.materresbull.2012.06.020
4. C. Luo, L. Sun, Y. Zhang, H. B. Huang, M. Yang, Y. Zhai, J. Du, and H. R. Zhai, Phys. Status Solidi C, 9, No. 1: 81 (2012). https://doi.org/10.1002/pssc.201084182
5. Ia. M. Lytvynenko, I. M. Pazukha, and V. V. Bibyk, J. Nano- Electron Phys., 6, No. 2: 02014 (2014).
6. G. Mandal, V. Srinivas, and V. V. Rao, J. Alloy. Comp., 484, Nos. 1-2: 851 (2009). https://doi.org/10.1016/j.jallcom.2009.05.058
7. C. Wang, X. Xiao, H. Hu, Y. Rong, and T. Y. Hsu, Phys. B, 392: 72 (2007). https://doi.org/10.1016/j.physb.2006.11.001
8. A. N. Pohorilyi, A. F. Kravets, E. V. Shypil, D. Y. Pod'yalovsky, A. Y. Vovk, C. S. Kim, M. V. Prudnikova, and H. R. Khan, Thin Solid Films, 423: 218 (2003). https://doi.org/10.1016/S0040-6090(02)01056-8
9. L. V. Odnodvorets, I. Y. Protsenko, Y. M. Shabelnyk, M. O. Shumakova, and O. P. Tkach, J. Nano- Electron. Phys., 8, No. 3: 03034 (2016). https://doi.org/10.21272/jnep.8(3).03034
10. I. M. Pazukha, O. V. Pylypenko, and L. V. Odnodvorets, Mater. Res. Express, 5, No. 10: 106409 (2018). https://doi.org/10.1088/2053-1591/aadb54
11. V. B. Loboda, S. M. Pyrogova, and S. I. Protsenko, Visnyk Sums'kogo DU, 3, No. 24: 74 (2001) (in Ukrainian).
12. S. S. Gorelik, L. N. Rastorguyev, and Yu. A. Skakov, Rentgenograficheskiy i Ehlektronograficheskiy Analiz Metallov [X-Ray and Electron Diffraction Analysis of Metals] (Moscow: GNTI: 1963) (in Russian).
13. W. Gasior, Z. Moser, and A. Debski, J. Alloy. Compd., 487: 132 (2009). https://doi.org/10.1016/j.jallcom.2009.07.160
 Усі статті ліцензовано на умовах Ліцензії Creative Commons із зазначенням авторства — без похідних 4.0 Міжнародна ©2003—2021 НАНОСИСТЕМЫ, НАНОМАТЕРИАЛЫ, НАНОТЕХНОЛОГИИ Институт металлофизики им. Г.В. Курдюмова Национальной Академии наук Украины. Електрона пошта: tatar@imp.kiev.ua Телефони та адреса редакції Про збірник Угода користувача |