збірник наукових праць наносистеми, наноматеріали, нанотехнології 2024, том 22, випуск 4
English Українська
Отримати статтю →
Том рік сторінка
Випуски PACS Передплатникам Для авторів
Пошук →
Розширений пошук

Випуски

 / 

2024

 / 

том 22 / 

випуск 4

 


Завантажити повну версію статті (в PDF форматі)

O.M. BORDUN, I.I. MEDVID, І.Yo. KUKHARSKYY, I.O. BORDUN, M.V. PROTSAK, V.G. BIHDAY, I.S. KUZ, A.I. TYSLYUK, R.V. PAVLIUS, and D.S. LEONOV

Surface Morphology of ZnGa2O4:Mn Thin Films Obtained by RF Ion-Plasma Sputtering on Quartz Substrates
823–832 (2024)

PACS numbers: 61.72.Ff, 61.72.Mm, 68.37.Ps, 68.55. J-, 79.60.Dp, 81.15.Cd, 81.40.Ef

Методом високочастотного йонно-плазмового розпорошення в атмосфері арґону на аморфних підкладинках ню-SiO2 одержано тонкі плівки ZnGa2O4:Mn. Дослідження морфології поверхні тонких плівок методом атомно-силової мікроскопії показали, що термооброблення тонких плівок ZnGa2O4:Mn у атмосфері повітря приводить до зростання середніх діяметрів зерен від 113 нм для невідпаленої плівки до 274 нм для відпаленого зразка та середньоквадратичної шерсткости поверхні тонких плівок від 3,8 нм до 6,2 нм відповідно. Проведено аналізу розподілів кристалітів за діяметром і за об’ємом; показано, що процес термооброблення тонких плівок приводить до зростання зерен за рахунок процесів росту та спікання

КЛЮЧОВІ СЛОВА: ґалат Цинку, маґнійовий активатор, тонкі плівки, кристаліти, морфологія поверхні, атомно-силова мікроскопія, відпал плівок


REFERENCES
  1. Dongyang Han, Kewei Liu, Qichao Hou, Xing Chen, Jialin Yang, Binghui Li, Zhenzhong Zhang, Lei Liu, and Dezhen Shen, Sens. Actuators A Phys., 315: 112354 (2020); https://doi.org/10.1016/j.sna.2020.112354
  2. Chengling Lu, Qingyi Zhang, Shan Li, Zuyong Yan, Zeng Liu, Peigang Li, and Weihua Tang, J. Phys. D: Appl. Phys., 54: 405107 (2021); doi:10.1088/1361-6463/ac1465
  3. Jia-Hang Liu, Lei Li, Fan Zhang, Ya-Ping Qi, Zhen-Ping Wu, and Wei-Hua Tang, Phys. Scr., 99: 055538 (2024); doi:10.1088/1402-4896/ad3b4f
  4. Ray-Hua Horng, Chiung-Yi Huang, Sin-Liang Ou, Tzu-Kuang Juang, and Po-Liang Liu, Cryst. Growth Des., 17: 6071 (2017); https://doi.org/10.1021/acs.cgd.7b01159
  5. Si-Han Tsai, Yuan-Chu Shen, Chiung-Yi Huang, and Ray-Hua Horng, Appl. Surf. Science, 496: 143670 (2019); https://doi.org/10.1016/j.apsusc.2019.143670
  6. Weiwei Zhang, Junying Zhang, Yuan Li, Ziyu Chen, and Tianmin Wang, Appl. Surf. Sci., 256, No. 14: 4702 (2010); https://doi.org/10.1016/j.apsusc.2010.02.077
  7. Anoop Kumar Singh, Shiau-Yuan Huang, Po-Wei Chen, Jung-Lung Chiang, and Dong-Sing Wuu, Nanomaterials, 11: 2316 (2021); https://doi.org/10.3390/nano11092316
  8. Mohammad M. Afandi and Jongsu Kim, Journal of Science: Advanced Materials and Devices, 8, No. 1: 100531 (2023); https://doi.org/10.1016/j.jsamd.2022.100531
  9. Wanmin Lin, Dan Zhang, Sixian Liu, Yuqiang Li, Wei Zheng, and Feng Huang, Mater. Lett., 283: 128805 (2021); https://doi.org/10.1016/j.matlet.2020.128805
  10. Ray-Hua Horng, Peng-Hsuan Huang, Yun-Sheng Li, Fu-Gow Tarntair, and Chih Shan Tan, Appl. Surf. Sci., 555: 149657 (2021); https://doi.org/10.1016/j.apsusc.2021.149657
  11. Yi-Siang Shen, Wei-Kai Wang, and Ray-Hua Horng, Journal of the Electron Devices Society, 5, No. 2: 112 (2017); doi:10.1109/JEDS.2017.2653419
  12. Kiyotaka Wasa, Makoto Kitabatake, and Hideaki Adachi, Thin Film Materials Technology. Sputtering of Compound Materials (William Andrew Inc.: 2004).
  13. O. M. Bordun, I. Yo. Kukharskyy, and V. G. Bihday, J. Appl. Spectrosc., 78, No. 6: 922 (2012); https://doi.org/10.1007/s10812-012-9555-9
  14. Wei-Kai Wang, Kuo-Feng Liu, Pi-Chuen Tsai, Yi-Jie Xu, and Shih-Yung Huang, Coatings, 9: 859 (2019); doi:10.3390/coatings9120859
  15. O. M. Bordun, I. O. Bordun, I. I. Medvid, M.V. Protsak, I. Yo. Kukharskyy, V. G. Bihday, I. M. Kofliuk, I. Yu. Khomyshyn, and D. S. Leonov, Nanosistemi, Nanomateriali, Nanotehnologii, 21, Iss. 4: 709 (2023); https://doi.org/10.15407/nnn.21.04.709
  16. O. M. Bordun, V. G. Bihday, І. Yo. Kukharskyy, І. І. Medvid, І. М. Kofliuk, I. Yu. Khomyshyn, Zh. Ya. Tsapovska, and D. S. Leonov, Nanosistemi, Nanomateriali, Nanotehnologii, 21, Iss. 2: 403 (2023); https://doi.org/10.15407/nnn.21.02.403
  17. Carl V. Thompson, Sol. State Phys., 55: 269 (2001); https://doi.org/10.1016/S0081-1947(01)80006-0
  18. Carl V. Thompson, J. Appl. Phys., 58: 763 (1985); https://doi.org/10.1063/1.336194
  19. O. M. Bordun, B. O. Bordun, I. Yo. Kukharskyy, I. I. Medvid, I. I. Polovynko, Zh. Ya. Tsapovska, and D. S. Leonov, Nanosistemi, Nanomateriali, Nanotehnologii, 19, Iss. 1: 159 (2021); https://doi.org/10.15407/nnn.19.01.159
  20. O. M. Bordun, B. O. Bordun, I. I. Medvid, M. V. Protsak, I. Yo. Kukharskyy, K. L. Biliak, D. M. Maksymchuk, I. M. Kofliuk, and D. S. Leonov, Nanosistemi, Nanomateriali, Nanotehnologii, 22, Iss. 1: 1 (2024); https://doi.org/10.15407/nnn.22.01.001
  21. J. E. Palmer, C. V. Thompson, and Henry L. Smith, J. Appl. Phys., 62, No. 6: 2492 (1987); http://dx.doi.org/10.1063/1.339460
Creative Commons License
Усі статті ліцензовано на умовах Ліцензії Creative Commons із зазначенням авторства — без похідних 4.0 Міжнародна
©2003—2024 НАНОСИСТЕМИ, НАНОМАТЕРІАЛИ, НАНОТЕХНОЛОГІЇ Інститут металофізики ім. Г.В. Курдюмова Національної Академії наук України.
Електрона пошта: tatar@imp.kiev.ua Телефони та адреса редакції Про збірник Угода користувача