Выпуски

 / 

2019

 / 

том 17 / 

выпуск 3

 



Завантажити повну версію статті (в PDF форматі)

I. V. Plyushchay, T. V. Gorkavenko, T. L. Tsaregrads’ka, O. I. Plyushchay
«Ab initio Modelling of the Electronic and Elastic Properties of Imperfect Silicon»
0529–0542 (2019)

PACS numbers: 61.72.J-, 61.72.U-, 62.20.de, 71.15.Mb, 71.20.Mq, 71.55.Cn, 75.50.Pp

Проведено першопринципний розрахунок атомарної й електронної структур, а також пружніх властивостей надкомірки силіцію з 64 атомів за наявности власних точкових дефектів, основних домішкових атомів (O, C) та леґувальних домішок (N, B, P, As, Al, In). Розрахунок проводився методою функціоналу густини в узагальненому ґрадієнтному наближенні за допомогою пакета програм ABINIT. Проаналізовано зміщення атомів Силіцію навколо досліджених точкових дефектів аж до 9 координаційної сфери включно. Обраховано та проаналізовано особливості зміни рівноважного об’єму та коефіцієнта всебічного стиснення надкомірки з 64 атомів Si із різними точковими дефектами. Показано, що деформація структури за рахунок точкових дефектів приводить до зменшення модуля всебічного стиснення для всіх досліджених випадків, крім міжвузловинного Оксиґену. Представлено та проаналізовано електронні спектри надкомірок силіцію з різними точковими дефектами. Показано, що наявність власних точкових дефектів, а також Оксиґену та Карбону в силіції приводить до появи вузьких домішкових піків в околі рівня Фермі, які у випадку міжвузловинного Оксиґену можуть приводити до формування магнетних моментів на домішкових атомах.

Keywords: silicon, point defects, atomic structure, electronic structure, bulk modulus


References
1. J. Slotte, M. Rummukainen, and F. Tuomisto, Phys. Rev. B, 78: 085202 (2008). https://doi.org/10.1103/PhysRevB.78.085202
2. L. A. Marqu s, L. Pelaz, I. Santos, P. L pez, and M. Aboy, Phys. Rev. B, 78: 193201 (2008); DOI: 10.1103/PhysRevB.78.193201. https://doi.org/10.1103/PhysRevB.78.193201
3. S. J. Clark and G. J. Ackland, Phys. Rev. B, 48: 10899 (1993). https://doi.org/10.1103/PhysRevB.48.10899
4. C. L. Allred, X. Yuan, M. Z. Bazant, and L. W. Hobbs, Phys. Rev. B, 70: 134113 (2004). https://doi.org/10.1103/PhysRevB.70.134113
5. J. P. Perdew, K. Burke, and M. Ernzerhof, Phys. Rev. Lett., 77: 3865 (1996). https://doi.org/10.1103/PhysRevLett.77.3865
6. X. Gonze, B. Amadon, P.-M. Anglade, J.-M. Beuken, F. Bottin, P. Boulanger, F. Bruneval, D. Caliste, R. Caracas, M. C t , T. Deutsch, L. Genovese, Ph. Ghosez, M. Giantomassi, S. Goedecker, D. R. Hamann, P. Hermet, F. Jollet, G. Jomard, S. Leroux, M. Mancini, S. Mazevet, M. J. T. Oliveira, G. Onida, Y. Pouillon, T. Rangel, G.-M. Rignanese, D. Sangalli, R. Shaltaf, M. Torrent, M. J. Verstraete, G. Zerah, and J. W. Zwanziger, Computer Phys. Comm., 180, Iss. 12: 2582 (2009); DOI: 10.1016/j.cpc.2009.07.007. https://doi.org/10.1016/j.cpc.2009.07.007
7. I. V. Plyushchay, T. L. Tsaregrads ka, O. O. Kalenyk, and O. I. Plyushchay, Metallofiz. Noveishie Tekhnol., 38, No. 9: 1233 (2016) (in Ukrainian). https://doi.org/10.15407/mfint.38.09.1233
8. M. A. Hopcroft, W. D. Nix, and T. W. Kenny, J. of Microelectromechanical Systems, 19: 229 (2010). https://doi.org/10.1109/JMEMS.2009.2039697
9. T. V. Gorkavenko, I. V. Plyushchay, O. I. Plyushchay, and V. A. Makara, Journal of Nano- and Electronic Physics, 9: 04025 (2017).
10. T. V. Gorkavenko, I. V. Plyushchay, O. I. Plyushchay, and V. A. Makara, Journal of Nano- and Electronic Physics, 10: 04030 (2018). https://doi.org/10.21272/jnep.10(4).04030
11. Semiconductors and Semimetals (Eds. R. K. Willardson, E. R. Weber, and A. C. Beer). Vol. 42. Oxygen in Silicon (Ed. F. Shimura) (Academic Press: 1994).
12. T. L. Makarova, Fizika i Tekhnika Poluprovodnikov, 38, No. 6: 641 (2004) (in Russian).
13. Ru-Fen Liu and Ching Cheng, Phys. Rev. B, 76: 014405 (2007). https://doi.org/10.1103/PhysRevB.76.014405
14. P. Pyykk , S. Riedel, and M. Patzschke, Chemistry, 11: 3511 (2005). https://doi.org/10.1002/chem.200401299
Creative Commons License
Усі статті ліцензовано на умовах Ліцензії Creative Commons із зазначенням авторства — без похідних 4.0 Міжнародна
© НАНОСИСТЕМИ, НАНОМАТЕРІАЛИ, НАНОТЕХНОЛОГІЇ Інститут металофізики ім. Г. В. Курдюмова НАН України, 2019
© I. V. Plyushchay, T. V. Gorkavenko, T. L. Tsaregrads’ka, O. I. Plyushchay, 2019

Електрона пошта: tatar@imp.kiev.ua Телефони та адреса редакції Про збірник Угода користувача