Выпуски

 / 

2019

 / 

том 17 / 

выпуск 1

 



Завантажити повну версію статті (в PDF форматі)

D. I. Saltykov, Yu. O. Shkurdoda, and I. Yu. Protsenko
«Temperature Effects in Magnetoresistive Properties of Three-Layer Films Based on \(Fe_{80}Co_{20}\) Alloy and Copper»
0101–0109 (2019)

PACS numbers: 68.55.-a, 72.15.Gd, 73.50.Jt, 73.61.At, 73.63.Bd, 75.47.De, 75.47.Np

Проведено дослідження впливу умов термооброблення на магнеторезистивні властивості тришарових плівок на основі стопу \(Fe_{80}Co_{20}\) та Cu. Показано, що для всіх свіжосконденсованих систем з прошарком міді товщиною у 5–15 нм і феромагнетними шарами з \(d_F = 30–40\) нм польові залежності є ізотропними. У випадку, коли фіксується ефект гігантського магнетоопору, його амплітуда має відносно більші значення у плівках, відпалених до температур у 400 або 550 К. Підвищення температури до 700 К приводить до незворотнього переходу до анізотропного магнетоопору. При зменшенні товщини свіжосконденсованих систем з феромагнетними прошарками товщиною до 10–20 нм залежності стають анізотропними. Відпалювання їх за температури у 550 К приводить до зміни характеру магнетоопору на ізотропний. У всіх досліджуваних плівок з ізотропним характером магнетоопору, як свіжосконденсованих, так і відпалених за різних температур, пониження температури міряння до 120 К стимулює збільшення величини магнетоопору, яке зумовлене магнонним і непружнім фононним розсіяннями електронів.

Keywords: three-layer films, thermal treatment, GMR effect, spin-dependent electron scattering, magnetoresistance


References
1. R. S. Sundar and S. C. Deevi, Mater. Sci. Eng. A, 369: 164 (2004). https://doi.org/10.1016/j.msea.2003.11.004
2. Jincai Li, Qingfeng Zhan, Shuanglan Zhang, Jinwu Wei, Jianbo Wang, Minjie Pan, Yali Xie, Huali Yang, Zheng Zhou, Shuhong Xie, Baomin Wang, and Run-Wei Li, Scientific Reports, 7: 2837 (2017). https://doi.org/10.1038/s41598-017-03288-6
3. L. Jogschies, D. Klaas, R. Kruppe, J. Rittinger, P. Taptimthong, A. Wienecke, L. Rissing, and M. Christopher Wurz, Sensors, 15: 28665 (2015). https://doi.org/10.3390/s151128665
4. T. Sahin, H. Kockar, and M. Alper, J. Magn. Magn. Mater., 373: 128 (2015). https://doi.org/10.1016/j.jmmm.2014.03.029
5. E. M. Kakuno, D. H. Mosca, I. Mazzaro, N. Mattoso, W. H. Schreiner, M. A. B. Gomes, and M. P. Cant o, J. Electrochem. Soc., 144, No. 9: 3222 (1997). https://doi.org/10.1149/1.1837987
6. D. I. Saltykov, Yu. O. Shkurdoda, and I. Yu. Protsenko, J. Nano- Electron. Phys., 10, No. 4: 04031-1 (2018). https://doi.org/10.21272/jnep.10(4).04031
7. D. I. Saltykov, Yu. O. Shkurdoda, and I. Yu. Protsenko, J. Nano- Electron. Phys., 10, No. 3: 03024-1 (2018). https://doi.org/10.21272/jnep.10(3).03024
8. Yu. O. Shkurdoda, I. M. Pazukha, and A. M. Chornous, Intermetallics, 93: 1 (2018). https://doi.org/10.1016/j.intermet.2017.10.007
9. O. I. Tovstolytkin, M. O. Borovyy, V. V. Kurylyuk, and Yu. A. Kunyts'kyy, Fizychni Osnovy Spintroniky (Vinnytsya: Nilan-LTD: 2014)) (in Ukrainian).
10. Yu. M. Shabelnyk, L. V. Odnodvorets, and I. Yu. Protsenko, Nanosistemi, Nanomateriali, Nanotehnologii, 10, No. 3: 495 (2012) (in Ukrainian).
Creative Commons License
Усі статті ліцензовано на умовах Ліцензії Creative Commons із зазначенням авторства — без похідних 4.0 Міжнародна
©2003—2019 НАНОСИСТЕМЫ, НАНОМАТЕРИАЛЫ, НАНОТЕХНОЛОГИИ Институт металлофизики им. Г.В. Курдюмова Национальной Академии наук Украины.

Електрона пошта: tatar@imp.kiev.ua Телефони та адреса редакції Про збірник Угода користувача