Скачать полную версию статьи (в PDF формате)

O. M. Bevza, S. B. Sydorenko, and A. V. Mumladze
«Deposition of the Two-Component Composition Containing a Magnetic Material by Magnetron Sputtering System»
0577–0589 (2016)

PACS numbers: 34.50.-s, 41.20.Gz, 52.25.Tx, 52.77.Dq, 81.15.Cd, 84.40.Fe, 85.70.Ay

При розробці магнетронної розпорошувальної системи для осадження двокомпонентної плівки заданого складу з одного джерела, де один з компонентів — магнетний матеріял, необхідно вирішити ряд завдань: розробити конструкцію магнетрона, яка уможливить розв’язати проблему шунтування магнетного поля матеріялом мішені; забезпечити необхідне співвідношення матеріялів у плівці, що осаджується. В роботі проаналізовано способи розв’язання проблеми шунтування магнетного поля матеріялом мішені. Розроблено конструкцію магнетронної розпорошувальної системи, яка уможливлює розпорошувати одночасно магнетний і немагнетний матеріяли. Розроблено просту методу визначення співвідношення матеріялів у плівці, що осаджується, при їх осадженні з однієї магнетронної розпорошувальної системи. Представлено результати моделювання й експериментального дослідження розробленої магнетронної розпорошувальної системи.