Перейти на головну сторінку журналу
Збірник наукових праць Наносистеми, наноматеріали, нанотехнології Рік 2025 Том 23, Випуск 1
English Українська
Отримати статтю →
Випуски PACS Для передплатників Для авторів
Пошук →
Розширений пошук

Випуски

 / 

2025

 / 

т. 23 / 

вип. 1

 


Завантажити повну версію статті (у форматі PDF)

O.M. BORDUN, I.I. MEDVID, I.Yo. KUKHARSKYY, V.G. BIHDAY, I.O. BORDUN, I.M. KOFLIUK, Zh.Ya. TSAPOVSKA, and D.S. LEONOV

Light Dispersion in Thin Films of ZnGa2O4:Cr3+ and ZnGa2O4:Mn2+ Obtained by RF Ion-Plasma Sputtering

101–108 (2025)

PACS numbers: 61.72.Ff, 61.72.Mm, 68.37.Ps, 68.55.J-, 78.20.Ci, 78.66.Li, 81.15.Cd

Методом високочастотного (ВЧ) йонно-плазмового розпорошення в атмосфері арґону одержано тонкі плівки ZnGa2O4:Cr3+ і ZnGa2O4:Mn2+. Методом АСМ проведено дослідження морфології поверхні та проаналізовано розміри нанокристалітів, які формують одержані плівки. На основі інтерференційної методики проведено визначення величини показника заломлення та встановлено, що в плівках обох типів у видимій області спостерігається нормальна дисперсія показника заломлення. Проведено аналізу одноосциляторного трипараметричного моделю, котрого було використано для опису дисперсійної залежности, та визначено статичний показник заломлення n0, характеристичну енергію E0, параметер апроксимації A й енергію плазмових коливань для валентних електронів ℏωp.

КЛЮЧОВІ СЛОВА: ґалат цинку, тонкі плівки, високочастотне напорошення, морфологія поверхні, дисперсія показника заломлення

DOI:  https://doi.org/10.15407/nnn.23.01.0101

REFERENCES
  1. Mu-I Chen, Anoop Kumar Singh, Jung-Lung Chiang, Ray-Hua Horng, and Dong-Sing Wu, Nanomaterials, 10, Iss. 11: 2208 (2020); https://doi.org/10.3390/nano10112208
  2. G. Anoop, K. Mini Krishna, and M. K Jayaraj, J. Electrochem. Soc., 158, No. 8: J269 (2011); https://doi.org/10.1149/1.3604755
  3. Chengling Lu, Qingyi Zhang, Shan Li, Zuyong Yan, Zeng Liu, Peigang Li, and Weihua Tang, J. Phys. D: Appl. Phys., 54, No. 40: 405107 (2021); https://doi.org/10.1088/1361-6463/ac1465
  4. Chia-Hsun Chen, Shu-Bai Liu, and Sheng-Po Changu, ACS Omega, 9, Iss. 13: 15304 (2024); https://doi.org/10.1021/acsomega.3c09965
  5. Yong Eui Lee, David P. Norton, John D. Budai, Philip D. Rack, Jeff Peterson, and Michael D. Potter, J. Appl. Phys., 91, No. 5: 2974 (2002); https://doi.org/10.1063/1.1448863
  6. O. M. Bordun, V. G. Bihday, and I. Yo. Kukharskyy, J. Appl. Spectrosc., 80, No. 5: 721 (2013); https://doi.org/10.1007/s10812-013-9832-2
  7. Ray-Hua Horng, Shu-Hsien Lin, Yi-Che Chen, Dun-Ru Hung, Po-Hsiang Chao, Pin-Kuei Fu, Cheng-Hsu Chen, Yi-Che Chen, Jhih-Hong Shao, Chiung-Yi Huang, Fu-Gow Tarntair, Po-Liang Liu, and Ching-Lien Hsiao, Nanomaterials, 12, Iss 21: 3759 (2022); https://doi.org/10.3390/nano12213759
  8. O. M. Bordun, V. G. Bihday, and I. Yo. Kukharskyy, J. Appl. Spectrosc., 81, No. 1: 43 (2014); https://doi.org/10.1007/s10812-014-9884-y
  9. V. Castaing, M. Romero, D. Rytz, G. Lozano, and H. Míguez, Adv. Optical Mater., 12, No. 36: 2401638 (2024); https://doi.org/10.1002/adom.202401638
  10. W.-L. Huang, C.-H. Li, S.-P. Chang, and S.-J. Chang, ECS J. Solid State Sci. Technol., 8, No. 7: Q3213 (2019); https://doi.org/10.1149/2.0371907jss
  11. Kiyotaka Wasa, Makoto Kitabatake, and Hideaki Adachi, Thin Film Materials Technology: Sputtering of Compound Materials (New York: Springer–William Andrew Inc. Publishing: 2004).
  12. O. M. Bordun, I. O. Bordun and I. Yo. Kukharskyy, J. Appl. Spectrosc., 78, No. 6: 922 (2012); https://doi.org/10.1007/s10812-012-9555-9
  13. R. Swanepoel, J. Phys. E: Sci. Instrum., 16, No. 12: 1214 (1983); https://doi.org/10.1088/0022-3735/16/12/023
  14. M. Abdel-Baki, F. A. Abdel Wahab, and F. El-Diasty, Mater. Chem. Phys., 96, Nos. 2–3: 201 (2006); https://doi.org/10.1016/j.matchemphys.2005.07.022
  15. S. H. Wemple and M. Di Domenico, Phys. Rev. B, 3: 1338 (1971); https://doi.org/10.1103/PhysRevB.3.1338
  16. O. M. Bordun, I. Yo. Kukharskyy, B. O. Bordun, and V. B. Lushchanets, J. Appl. Spectrosc., 81, No. 5: 771 (2014); https://doi.org/10.1007/s10812-014-0004-9
  17. O. M. Bordun, I. Yo. Kukharskyy, and I. I. Medvid, J. Appl. Spectrosc., 83, No. 1: 141 (2016); https://doi.org/10.1007/s10812-016-0257-6
  18. M. Nonaka, T. Tanizaki, S. Matsushima, M. Mizuno, and C.-N. Xu, Chem. Lett., 30, No. 6: 664 (2001); https://doi.org/10.1246/cl.2001.664
  19. S. K. Sampath and J. F. Cordaro, J. Am. Ceram. Soc., 81, No. 3: 649 (1998); https://doi.org/10.1111/j.1151-2916.1998.tb02385.x
  20. K. Ikarashi, J. Sato, H. Kobayashi, N. Saito, H. Nishiyama, and Y. Inoue, J. Phys. Chem. B, 106, No. 35: 9048 (2002); https://doi.org/10.1021/jp020539e
  21. Suresh K. Sampath, D. G. Kanhere, and Ravindra Pandey, J. Phys.: Condens. Matter, 11: 3635 (1999); https://doi.org/10.1088/0953-8984/11/18/301
  22. David R. Penn, Phys. Rev., 128: 2093 (1962); https://doi.org/10.1103/PhysRev.128.2093
Creative Commons License
Ця стаття ліцензована під Creative Commons Attribution-NoDerivatives 4.0 International License
©2003 НАНОСИСТЕМИ, НАНОМАТЕРІАЛИ, НАНОТЕХНОЛОГІЇ Інститут металофізики ім. Г. В. Курдюмова НАН України.
E-mail: tatar@imp.kiev.ua Телефони та адреса редакції Про збірник Угода користувача