Випуски

 / 

2014

 / 

том 12 / 

випуск 3

 



Скачать полную версию статьи (в PDF формате)

S. A. Mulenko
«Pulsed Laser Deposition of Thin Iron and Chromium Silicide Films with Large Thermoelectromotive Force Coefficient»
0623–0632 (2014)

PACS numbers: 72.20.Pa, 73.22.-f, 73.50.Lw, 73.61.-r, 81.15.Fg, 81.16.Mk, 85.80.Fi

Наноструктури у формі тонких плівок, що проявили напівпровідникові властивості, з вузькою енергетичною забороненою зоною було осаджено методом імпульсного лазерного осадження (PLD) з мішеней CrSi2 і ?-FeSi2 із застосуванням ексимерного KrF-лазера. Плівки, яких було осаджено з мішені CrSi2 на підложжя ?100?Si при температурах у 293 К і 740 К, мали ширину забороненої зони Eg ? 0,09 еВ і 0,18 еВ відповідно. Плівки, яких було осаджено з мішені ?-FeSi2 на підложжя ?100?Si за таких же умов, мали ширину забороненої зони Eg ? 0,16 еВ і 0,31 еВ відповідно. Найбільше значення коефіцієнта термоерс (Зеєбекового коефіцієнта) S плівок на основі CrSi2 при осадженні на нагріте підложжя при 740 К складає біля 1,4 мВ/К при 300 К???T???340 К. Найбільше значення коефіцієнта S плівок на основі ?-FeSi2 при осадженні на нагріте також підложжя складає біля 1,5 мВ/К у тому ж інтервалі температур. Чим більше Eg, тим більше значення було встановлено для коефіцієнта S. Рентґенодифракційний аналіз показав, що плівки, яких було осаджено на Si-підложжя, мали полікристалічну структуру, а плівки, яких було осаджено SiO2-підложжя, були аморфними. Що стосується коефіцієнта S для плівок, яких було осаджено на SiO2-підложжя, то він виявився більшим для полікристалічних плівок, аніж для аморфних. Таким чином, PLD-метод із використанням ексимерного KrF-лазера є ефективним методом осадження наноструктур у формі тонких плівок, які є вельми придатними для термосенсорів, що працюють за помірних температур.

©2003—2021 наносистеми, наноматеріали, нанотехнології Інститут металофізики ім. Г.В. Курдюмова Національної академії наук України.
Електрона пошта: tatar@imp.kiev.ua Телефони та адреса редакції про збірник Угода користувача