Выпуски

 / 

2019

 / 

том 17 / 

выпуск 1

 



Скачать полную версию статьи (в PDF формате)

V. V. Kidalov, A. F. Dyadenchuk, Yu. Yu. Bacherikov, A. G. Zhuk, V. A. Baturin, I. V. Rogozin, O. Y. Karpenko, and Vit. V. Kidalov
«Properties of the ZnO Films Obtained on Mesoporous Si Substrates by means of a Magnetron Sputtering»
0111–0122 (2019)

PACS numbers: 68.37.Hk, 78.30.Fs, 78.55.Et, 78.55.Mb, 78.67.Pt, 78.67.Rb, 81.15.Cd

В работе методом реактивного магнетронного ВЧ-распыления получены плёнки ZnO на подложках кремния ориентации (100) с предварительно нанесённой системой мезопор. Рентгенографические исследования ZnO показали, что плёнки имеют поликристаллическую природу с гексагональной решёткой типа вюрцита. Средние размеры кристаллитов составили около 50–200 нм. Микроэлементный анализ выявил практически идеальную стехиометричность ZnO, выращенного на porous-Si/Si. В плёнках ZnO наблюдается едва заметный пик в зелёной (500–530 нм) и более выразительный в жёлто-оранжевой (590–620 нм) областях спектра.

Keywords: ZnO film, porous substrate Si, method of reactive magnetron RF sputtering


References
1. N. R. Aghamalyan, R. K. Hovsepyan, and S. I. Petrosyan, Journal of Contemporary Physics (Armenian Academy of Sciences), 43: No. 4: 177 (2008). https://doi.org/10.3103/S1068337208040051
2. D. Strykov, G. Snider, D. Stewart, and S. Williams, Nature, 453: 80 (2008). https://doi.org/10.1038/nature06932
3. Dae-Kue Hwang, Min-Suk Oh, Jae-Hong Lim, and Seong-Ju Park, Journal of Physics D: Applied Physics, 40: 387 (2007). https://doi.org/10.1088/0022-3727/40/22/R01
4. K. M. Sandeep, Shreesha Bhat, and S. M. Dharmaprakash, Journal of Physics and Chemistry of Solids, 104: 36 (2017). https://doi.org/10.1016/j.jpcs.2017.01.003
5. S. Mridha and D. Basak, J. Applied Physics, 101: 083102 (2007). https://doi.org/10.1063/1.2724808
6. A. D. Pogrebnyak, A. A-K. M. Muhammed, and Yu. S. Bukalceva, PSE, 8, No. 4: 348 (2010) (in Russian).
7. R. P. Doherty, Yuekui Sun, Ye Sun, J. L. Warren, N. A. Fox, D. Cherns, and M. N. R. Ashfold, Applied Physics A, 89, No. 1: 49 (2007). https://doi.org/10.1007/s00339-007-4075-9
8. Xianqi Wei, Ranran Zhao, Minghui Shao, Xijin Xu, and Jinzhao Huang, Nanoscale Res. Lett, 8, No. 1: 112 (2013). https://doi.org/10.1186/1556-276X-8-112
9. A. Kh. Abduev, A. K. Akhmedov, A. Sh. Asvarov, and S. Sh. Makhmudov, J. Nano- Electron. Phys., 10, No. 2: 02041 (2018) (in Russian). https://doi.org/10.21272/jnep.10(2).02041
10. C. F. Klingshirn, B. K. Meyer, A. Waag, A. Hoffmann, and J. Geurts, (Berlin: Springer) 359 (2010).
11. S. Nishino, C. Jacob, Y. Okui, S. Ohshima, and Y. Masuda, J. Cryst. Growth, 237-239: 1250 (2002). https://doi.org/10.1016/S0022-0248(01)02229-1
12. S. A. Kukushkin, A. V. Osipov, and N. A. Feoktistov, phys. status solidi, 56, No. 8: 1457 (2014) (in Russian).
13. V. V. Kidalov, G. A. Sukach, A. S. Revenko, and A. D. Bayda, phys. stat. sol. (a), 202: 1668 (2005). https://doi.org/10.1002/pssa.200461215
14. V. V. Kidalov, G. A. Sukach, A. S. Revenko, and E. P. Potapenko, Semiconductors, 37, No. 11: 1303 (2003) (in Russian). https://doi.org/10.1134/1.1626205
15. V. V. Kidalov, G. A. Sukach, and A. S. Revenko, Russian Journal of Physical Chemistry, 77: 1677 (2003).
16. V. V. Kidalov, S. A. Kukushkin, A. V. Osipov, A. V. Redkov, A. S. Grashchenko, I. P. Soshnikov, M. E. Boiko, M. D. Sharkov, and A. F. Dyadenchuk, ECS J. of Solid State Science and Technology, 7, No. 4: P1 (2018). https://doi.org/10.1149/2.0061804jss
17. V. V. Kidalov, S. A. Kukushkin, A. V. Osipov, A. V. Redkov, A. S. Grashchenko, I. P. Soshnikov, M. E. Boiko, M. D. Sharkov, and A. F. Dyadenchuk, Materials Physics and Mechanics, 36: 39 (2018); https://doi.org/10.18720/MPM.3612018_4 18. S. A. Kukushkin, Sh. Sh. Sharofidinov, A. V. Osipov, A. V. Redkov, V. V. Kidalov, A. S. Grashchenko, I. P. Soshnikov, and A. F. Dyadenchuk, ECS J. of Solid State Sci. Technol., 7, No. 9: P480 (2018). https://doi.org/10.1149/2.0191809jss
19. Uday Muhsin Nayef, Mohammed Waleed Muayad, and Haider Amer Khalaf, Int. J. Electrochem. Sci., 9: 2278 (2014).
20. J. Serrano, F. J. Manjon, A. H. Romero, F. Widulle, R. Lauck, and M. Cardona, Phys. Rev. Lett., 90: 055510 (2003). https://doi.org/10.1103/PhysRevLett.90.055510
21. D. Kovalev, H. Heckler, G. Polisski, and F. Koch, phys. status solidi, 215, No. 2: 871 (1999). https://doi.org/10.1002/(SICI)1521-3951(199910)215:2<871::AID-PSSB871>3.0.CO;2-9
Creative Commons License
Все статьи доступны по Лицензии Creative Commons “Attribution-NoDerivatives” («атрибуция — без производных статей») 4.0 Всемирная
©2003—2019 НАНОСИСТЕМЫ, НАНОМАТЕРИАЛЫ, НАНОТЕХНОЛОГИИ Институт металлофизики им. Г.В. Курдюмова Национальной Академии наук Украины.

Электронная почта: tatar@imp.kiev.ua Телефоны и адрес редакции О сборнике Пользовательское соглашение