Выпуски

 / 

2018

 / 

том 16 / 

выпуск 2

 



Скачать полную версию статьи (в PDF формате)

Yu. O. Kruglyak
«Physics of Nanotransistors: the Theory of the Metal-Oxide-Semiconductor Field-Effect Transistor in a Traditional Posing, the Principles of Model of a Virtual Source, and Approximation of an Exhaustion»
0233–0270 (2018)

PACS numbers: 72.20.Dp, 72.80.Ey, 85.30.De, 85.30.Pq, 85.30.Tv, 85.40.Bh

Рассмотрена традиционная теория MOSFET. Обсуждаются лишь наиболее существенные идеи привычного подхода, получившего также название «сверху–вниз». В частности, ограничимся моделированием лишь линейной области и области насыщения вольт-амперных характеристик и вместе с тем покажем, что существенные черты традиционного подхода вполне приемлемы и могут служить отправной точкой при разработке во многом совершенно иной физической картины процессов в нанотранзисторах. Традиционная модель MOSFET была переписана в форме, близкой к модели виртуального истока. Применение этой усовершенствованной модели к современным нанотранзисторам оказалось удивительно удачным, что является следствием учёта электростатики MOS через такой существенный фактор как контроль высоты барьера между истоком и каналом со стороны затвора. Наиболее слабым местом этой модели является описание транспорта электронов, поскольку оно базируется на использовании таких понятий как подвижность и скорость насыщения. Именно поэтому эти две метрики и были выбраны в качестве подгоночных параметров, с целью вписаться в экспериментальные данные для входных характеристик. Далее мы вернёмся к более глубокому рассмотрению электростатики MOS и покажем, как можно более корректно описать подпороговую и надпороговую области, результатом чего явится улучшенная модель виртуального истока, однако подвижность и скорость насыщения всё же останутся подгоночными параметрами. После этого физически более корректно опишем транспорт электронов с учётом возможности баллистического транспорта и окончательно построим модель виртуального истока, адекватную современным нанотранзисторам с длиной канала проводимости не менее 10 нм.

Keywords: nanoelectronics, field effect transistor, current–voltage characteristics, transistor metrics, transistor control, virtual source


References
1. S. R. Hofstein and F. P. Heiman, Proc. IEEE, 1190 (1963). https://doi.org/10.1109/PROC.1963.2488
2. C. T. Sah, IEEE Trans. Electron Dev., 11: 324 (1964). https://doi.org/10.1109/T-ED.1964.15336
3. H. Shichman and D. A. Hodges, IEEE J. Solid State Circuits, SC-3: 285 (1968). https://doi.org/10.1109/JSSC.1968.1049902
4. B. J. Sheu, D. L. Scharfetter, P.-K. Ko, and M.-C. Jeng, IEEE J. Solid State Circuits, SC-22: 558 (1987). https://doi.org/10.1109/JSSC.1987.1052773
5. I. M. Vikulin and V. I. Stafeev, Fizika Poluprovodnikovykh Priborov (Moscow: Radio i Svyaz': 1990) (in Russian).
6. R. F. Pierret, Semiconductor Device Fundamentals (New York: Addison-Wesley: 1996).
7. B. Streetman and S. Banerjee, Solid State Electronic Devices (New York: Prentice Hall: 2005).
8. Y. Tsividis and C. McAndrew, Operation and Modeling of the MOS Transistor (New York: Oxford Univ. Press: 2011).
9. Y. Taur and T. Ning, Fundamentals of Modern VLSI Devices (New York: Oxford Univ. Press: 2013).
10. Yu. A. Kruglyak, Nanosistemi, Nanomateriali, Nanotehnologii, 16, No. 2: 210 (2018) (in Russian).
11. C. G. Sodini, P.-K. Ko, and J. L. Moll, IEEE Trans. Electron Dev., 31: 1386 (1984). https://doi.org/10.1109/T-ED.1984.21721
12. C. Geong, D. A. Antoniadis, and M. S. Lundstrom, IEEE Trans. Electron Dev., 56: 2762 (2009). https://doi.org/10.1109/TED.2009.2030844
13. Y. Liu, M. Luisier, A. Majumdar, D. Antoniadis, and M. S. Lundstrom, IEEE Trans. Electron Dev., 59: 994 (2012). https://doi.org/10.1109/TED.2012.2183599
14. A. Khakifirooz, O. M. Nayfeh, and D. A. Antoniadis, IEEE Trans. Electron Dev., 56: 1674 (2009). https://doi.org/10.1109/TED.2009.2024022
15. M. Lundstrom, Fundamentals of Nanotransistors (Singapore: World Scientific: 2018); www.nanohub.org/courses/NT.
16. Chenming Hu, Modern Semiconductor Devices for Integrated Circuits (London: Pearson India: 2009).
17. M. Lundstrom and Xingshu Sun, Notes on the Solution of the Poisson-Boltzmann Equation for MOS Capacitors and MOSFETs (West Lafayette, Indiana, USA: Purdue University: 2012); www.nanohub.org/resources/5338.
Creative Commons License
Все статьи доступны по Лицензии Creative Commons “Attribution-NoDerivatives” («атрибуция — без производных статей») 4.0 Всемирная
©2003—2021 НАНОСИСТЕМЫ, НАНОМАТЕРИАЛЫ, НАНОТЕХНОЛОГИИ Институт металлофизики им. Г.В. Курдюмова Национальной Академии наук Украины.

Электронная почта: tatar@imp.kiev.ua Телефоны и адрес редакции О сборнике Пользовательское соглашение