 |
|||||||||
 |
2020, том 18, выпуск 4 |
|
|||||||
|
|||||||||
Выпуски/2020/том 18 /выпуск 4 |
A. M. Lohvynov, I. V. Cheshko, S. I. Protsenko
«Structural and Phase State and Magnetoresistive Properties of Spin-Valve Structures Based on Co and Ru»
0953–0960 (2020)
PACS numbers: 68.37.Ps, 68.55.Nq, 73.50.Jt, 73.61.At, 75.47.Np, 85.70.Kh, 85.75.-d
Встановлено фазовий склад і вивчено магнеторезистивні властивості свіжосконденсованих і відпалених за температури у 600 К тришарових плівкових систем на основі Co та Ru у діяпазоні товщин окремих шарів 5–40 нм. Показано, що плівки Ru з ефективною товщиною менше 15 нм, одержані на підігріту до 500 К склокерамічну підкладинку, структурно несуцільні. У випадку наявности шару Co плівки Ru структурно суцільні за товщин dRu більше 5 нм. Запропоновано оптимальні умови формування синтетичних антиферомагнетних (САФ) шарів на основі Ru та Co для металевих спін-клапанів із стабільними кристалічною структурою та магнеторезистивними властивостями. Найбільш ефективними з точки зору значення величини магнетоопору є тришарові структури Co/Ru/Co/П з товщиною шарів d\(_{Co}\)=20 нм і товщиною прошарку d\(_{Ru}\)=5–20 нм з подальшим відпалюванням до 600 К.
Keywords: thin film, phase composition, spin-valve structure, magnetoresistance, coercive force
References
1. P. H. Chan, X. L. Philip, and W. T. Pong, Vacuum, 140: 111 (2017); https://doi.org/10.1016/j.vacuum.2016.09.0102. X. Li, C. W. Leung, C.-C. Chiu, K.-W. Lin, M. Chan, Y. Zhou, and Philip W. T. Pong, Applied Surface Science, 410: 479 (2017); https://doi.org/10.1016/j.apsusc.2017.03.094
3. C. Y. You, J. Yoon, S.-Y. Park, S. Yuasa, and M.-H. Jung, Current Applied Physics, 11: e92 (2011); https://doi.org/10.1016/j.cap.2010.11.128
4. P. Pirro, A. Hamadeh, M. Lavanant-Jambert, T. Meyer, B. Tao, E. Rosario, Y. Lu, M. Hehn, S. Mangin, and S. P. Watelot, Journal of Magnetism and Magnetic Materials, 432: 260 (2017); https://doi.org/10.1016/j.jmmm.2017.02.002
5. X. Zhang, H. Deng, S. Xiao, Z. Zhang, J. Tang, L. Deng, and W. Hu, Journal of Alloys and Compounds, 588: 163 (2014); https://doi.org/10.1016/j.jallcom.2013.11.024
6. H. J. Jung, J. H. Han, E. A. Jung, B. K. Park, J.-H. Hwang, S. U. Son, C. G. Kim, and T. Chung, Chemistry of Materials, 26: 7083 (2014); https://doi.org/10.1021/cm5035485
7. S. Yeo, S. Choi, J. Park, S.-H. Kim, T. Cheon, B. Lim, and S. Kim, Thin Solid Films, 546: 2 (2013); https://doi.org/10.1016/j.tsf.2013.03.074
8. Y. W. Song, V. Yu. Vasilyev, and K. P. Mogilnikov, Current Applied Physics, 9: e148 (2009); https://doi.org/10.1016/j.cap.2008.12.046
9. T. Nagano, K. Inokuchi, K. Tamahashi, N. Ishikawa, Y. Sasajima, and J. Onuki, Thin Solid Films, 520: 374 (2011); https://doi.org/10.1016/j.tsf.2011.07.046
10. Y. Nakamura and U. Mizutani, Materials Science and Engineering A, 181: 790 (1994).
11. S. C. Chen, S. U. Jen, R. Z. Chen, C. F. Lu, C. M. Wang, P. C. Kuo, J. Magn. Magnet. Mat., 459: 106 (2018).
12. A. M. Lohvynov, I. V. Cheshko, M. V. Kostenko, and S. I. Protsenko, Proceedings of the 6th International Conference ‘Nanomaterials: Application & Properties—NAP-2016’ (14–19 September 2016, Lviv, Ukraine), vol. 5, Pt. 1, p. 129; DOI: 10.1109/NAP.2016.7757255
13. A. В. Самсонов, Физико-химические свойства элементов: Справочник (Киев: Наукова думка: 1965).
14. V. K. Portnoi, A. V. Leonov, A. N. Streletskii, and A. I. Logacheva, The Physics of Metals and Metallography, 115, No. 3: 277 (2014); https://doi.org/10.1134/S0031918X14030089
15. S. Zsurzsa, L. Peter, L. F. Kiss, and L. Bakonyi, J. Magn. Magnet. Mat., 421: 194 (2017).
 Все статьи доступны по Лицензии Creative Commons “Attribution-NoDerivatives” («атрибуция — без производных статей») 4.0 Всемирная ©2003—2021 НАНОСИСТЕМЫ, НАНОМАТЕРИАЛЫ, НАНОТЕХНОЛОГИИ Институт металлофизики им. Г.В. Курдюмова Национальной Академии наук Украины. Электронная почта: tatar@imp.kiev.ua Телефоны и адрес редакции О сборнике Пользовательское соглашение |