Скачать полную версию статьи (в PDF формате)
O. M. Bevza, S. B. Sydorenko, and A. V. Mumladze
«Deposition of the Two-Component Composition Containing a Magnetic Material by Magnetron Sputtering System»
0577–0589 (2016)
PACS numbers: 34.50.-s, 41.20.Gz, 52.25.Tx, 52.77.Dq, 81.15.Cd, 84.40.Fe, 85.70.Ay
При разработке магнетронной распылительной системы для осаждения двухкомпонентной плёнки заданного состава с одного источника, где один из компонентов — магнитный материал, необходимо решить ряд задач: разработать конструкцию магнетрона, которая позволит решить проблему шунтирования магнитного поля материалом мишени; обеспечить необходимое соотношение материалов в осаждаемой плёнке. В работе проанализированы способы решения проблемы шунтирования магнитного поля материалом мишени. Разработана конструкция магнетронной распылительной системы, которая позволяет распылять одновременно магнитный и немагнитный материалы. Разработан простой метод определения соотношения материалов в осаждаемой плёнке при осаждении их с одной магнетронной распылительной системы. Представлены результаты моделирования и экспериментального исследования разработанной магнетронной распылительной системы.
|