Выпуски

 / 

2015

 / 

том 13 / 

выпуск 1

 



Скачать полную версию статьи (в PDF формате)

M. Yu. Bobyk, V. P. Ivanitsky, M. M. Ryaboshchuk, and O. Ya. Svatyuk
«Different Electron-Scattering Mechanisms’ Contribution to the Formation of the Amplitude Contrast of Electron-Microscopic Images»
0085–0097 (2015)

PACS numbers: 07.78.+s, 61.05.J-, 61.05.jd, 61.43.Dq, 68.37.Lp, 68.55.jd, 87.64.Ee

Предложен новый метод экспериментального определения амплитуды контрастного значения электронно-микроскопических изображений для аморфных материалов. Были получены математические соотношения для расчёта вкладов различных механизмов рассеяния электронов на изучаемом объекте в контраст на основе соответствующих электронограмм. Для аморфных плёнок As40Se60 были найдены экспериментально доли вкладов упруго когерентно, упруго некогерентно и неупруго рассеянных электронов в контраст.

©2003—2021 НАНОСИСТЕМЫ, НАНОМАТЕРИАЛЫ, НАНОТЕХНОЛОГИИ Институт металлофизики им. Г.В. Курдюмова Национальной Академии наук Украины.
Электронная почта: tatar@imp.kiev.ua Телефоны и адрес редакции О сборнике Пользовательское соглашение