Выпуски

 / 

2014

 / 

том 12 / 

выпуск 3

 



Скачать полную версию статьи (в PDF формате)

S. A. Mulenko
«Pulsed Laser Deposition of Thin Iron and Chromium Silicide Films with Large Thermoelectromotive Force Coefficient»
0623–0632 (2014)

PACS numbers: 72.20.Pa, 73.22.-f, 73.50.Lw, 73.61.-r, 81.15.Fg, 81.16.Mk, 85.80.Fi

Наноструктуры в форме тонких плёнок, которые проявили полупроводниковые свойства, с узкой энергетической запрещённой зоной были осаждены методом импульсного лазерного осаждения (PLD) из мишеней CrSi2 и ?-FeSi2 с применением эксимерного KrF-лазера. Плёнки, осаждённые из мишени CrSi2 на подложку ?100?Si при температурах 293 К и 740 К, имели ширину запрещённой зоны Eg ? 0,09 эВ и 0,18 эВ соответственно. Плёнки, осаждённые из мишени ?-FeSi2 на подложку ?100?Si при тех же условиях, имели ширину запрещённой зоны Eg ? 0,16 эВ и 0,31 эВ соответственно. Наибольшее значение коэффициента термоэдс (коэффициента Зеебека) S для плёнок на основе CrSi2 при осаждении на нагретую подложку при 740 К составляет около 1,4 мВ/К при 300 К???T???340 К. Наибольшее значение коэффициента S для плёнок на основе ?-FeSi2 при осаждении на нагретую так же подложку составляет около 1,5 мВ/К в том же интервале температур. Чем больше Eg, тем большее значение было установлено для коэффициента S. Рентгенодифракционный анализ показал, что плёнки, осаждённые на Si-подложки, имели поликристаллическую структуру, а плёнки, осаждённые на SiO2-подложки, были аморфными. Что касается коэффициента S для плёнок, осаждённых на подложки Si и SiO2, то он для поликристаллических плёнок оказался больше, чем для аморфных. Чем больше концентрация полупроводниковой фазы в осаждённых плёнках, тем больше коэффициент S. Таким образом, PLD-метод с применением эксимерного KrF-лазера является эффективным методом осаждения наноструктур в форме тонких плёнок, которые весьма удобны для термосенсоров, работающих при умеренных температурах.

©2003—2021 НАНОСИСТЕМЫ, НАНОМАТЕРИАЛЫ, НАНОТЕХНОЛОГИИ Институт металлофизики им. Г.В. Курдюмова Национальной Академии наук Украины.
Электронная почта: tatar@imp.kiev.ua Телефоны и адрес редакции О сборнике Пользовательское соглашение