збірник наукових праць наносистеми, наноматеріали, нанотехнології 2022, том 20, випуск 3
English Українська
Отримати статтю →
Том рік сторінка
Випуски Автори PACS Передплатникам Для авторів
Пошук →
Розширений пошук

Випуски

 / 

2022

 / 

том 20 / 

випуск 3

 


Завантажити повну версію статті (в PDF форматі)

О. М. Bordun, І. О. Bordun, І. М. Kofliuk, І. Yo. Kukharskyy, І. І. Medvid, І. М. Kravchuk, M. S. Karkulovska, and D. S. Leonov
Deposition of Thin Y2O3:Eu Films by Radio-Frequency Sputtering
0639–0645 (2022)

PACS numbers: 61.72.J-, 68.55.Ln, 72.20.Jv, 78.60.Hk, 81.15.Cd, 81.15.Jj, 82.80.Yc

Досліджено залежність швидкости нанесення тонких плівок Y2O3:Eu за ВЧ-розпорошення від тиску та складу робочого газу. Встановлено наявність оптимального тиску робочого газу, за якого швидкість нанесення є максимальною. Досліджено вплив концентрації активатора Eu3+ на швидкість нанесення тонких плівок і яскравість катодолюмінесценції тонких плівок Y2O3:Eu. Пояснення одержаних результатів проводиться в межах ефектів зворотнього розсіяння, зворотньої дифузії, а особлива увага приділяється механізму резонансної перезарядки.

Keywords: оксид Ітрію, тонкі плівки, високочастотне розпорошення, катодолюмінесценція.


References
  1. J. Rosa, M. J. Heikkila, M. Sirkia, and S. Merdes, Materials, 14: 1505 (2021).
  2. N. Rakov, S. A. Vieira, and A. S. L. Gomes, J. Mater. Sci.: Mater. Electron, 32: 23285 (2021).
  3. I. O. Bordun, O. M. Bordun, I. Yo. Kukharskyy, and Zh. Ya. Tsapovska, Acta Physica Polonica A, 133, No. 4: 914 (2018).
  4. J. Petry, R. Komban, C. Gimmler, and H. Weller, Nanoscale Adv., 4: 858 (2022).
  5. A. Askerbay, A. Molkenova, and T. Sh. Atabaev, Materials Today: Proceedings, 20: 245 (2020).
  6. O. M. Bordun, I. O. Bordun, I. Yo. Kukharskyy, Zh. Ya. Tsapovska, and M. V. Partyka, J. Appl. Spectroscopy, 84, No. 6: 1072 (2018).
  7. E. E. Kaya and S. Gurmen, Physica E: Low-Dimensional Systems and Nanostructures, 115: 113668 (2020).
  8. D. G. Kim, D. S. Kwon, J. Lim, H. Seo, T. K. Kim, W. Lee, and C. S. Hwang, Adv. Electron. Mater., 7: 2000819 (2021).
  9. J. Y. Jeong and J. H. Kim, Appl. Sci. Converg. Technol., 30, No. 1: 34 (2021).
  10. O. M. Bordun, I. O. Bordun, and I. Yo. Kukharskyy, J. Appl. Spectroscopy, 79, No. 6: 982 (2013).
  11. K. Wasa, M. Kitabatake, and H. Adachi, Thin Film Materials Technology. Sputtering of Compound Materials (United States: Springer-Verlag GmbH & Co. KG: 2004).
  12. M. M. Abdelrahman, J. of Phys. Science and Application, 5, No. 2: 128 (2015).
  13. O. M. Bordun, I. O. Bordun, and I. Yo. Kukharskyy, J. Appl. Spectroscopy, 82, No. 3: 390 (2015).
  14. O. M. Bordun, I. O. Bordun, and I. Yo. Kukharskyy, J. Appl. Spectroscopy, 84, No. 2: 249 (2017).
  15. D. Lundin, T. Minea, and J. T. Gudmundsson, High Power Impulse Magnetron Sputtering. Fundamentals, Technologies, Challenges and Applications (Netherlands: Elsevier Inc.: 2020).
  16. G. Speranza, W. Liu, and L. Minati, Applications of Plasma Technologies to Material Processing (CRC Press–Taylor & Francis Group: 2019)
Creative Commons License
Усі статті ліцензовано на умовах Ліцензії Creative Commons із зазначенням авторства — без похідних 4.0 Міжнародна
©2003—2022 НАНОСИСТЕМЫ, НАНОМАТЕРИАЛЫ, НАНОТЕХНОЛОГИИ Институт металлофизики им. Г.В. Курдюмова Национальной Академии наук Украины.
Електрона пошта: tatar@imp.kiev.ua Телефони та адреса редакції Про збірник Угода користувача