 |
|||||||||
 |
2018, том 16, выпуск 4 |
|
|||||||
|
|||||||||
Выпуски/2018/том 16 /выпуск 4 |
D. O. Shuliarenko, I. M. Pazukha, O. V. Pylypenko, and L. V. Odnodvorets’
«Structural–Phase State and Electrophysical Properties of Thin-Film Systems Based on Permalloy and Silver»
0633–0644 (2018)
PACS numbers: 68.37.Lp, 68.55.jd, 68.55.Nq, 68.60.Dv, 73.50.Lw, 73.61.At, 81.15.Ef
Представлены экспериментальные результаты, относящиеся к структурно-фазовому состоянию и электрофизическим свойствам плёночных систем на основе пермаллоя и серебра, полученных методом одновременной конденсации компонентов. Получены концентрационные зависимости удельного сопротивления, температурного коэффициента сопротивления, а также концентрационная зависимость температуры залечивания дефектов в системе. Показано, что изменение концентрации атомов немагнитного материала в диапазоне от 20 до 85 ат.% приводит к появлению минимума или максимума на зависимостях ?(cAg) и ?(cAg) соответственно, что связано с изменениями в кристаллической структуре образцов.
Keywords: thin-film alloy, co-evaporation, resistivity, temperature coefficient of resistance, temperature of the healing of defects, concentration dependences
References
1. Y. Jiang, S. Yao, and W. Zhang, Thin Solid Films, 516: 3210 (2008). https://doi.org/10.1016/j.tsf.2007.12.1092. K. Zhao, Y. Xing, J. Han, J. Feng, W. Shi, B. Zhang, and Z. Zeng, J. Magn. Magn. Mater., 432: 10 (2017). https://doi.org/10.1016/j.jmmm.2017.01.066
3. B. B. Singh, S. Chaudhary, and D.K. Pandya, Mater. Res. Bull., 47, No. 11: 3786 (2012). https://doi.org/10.1016/j.materresbull.2012.06.020
4. C. Luo, L. Sun, Y. Zhang, H. B. Huang, M. Yang, Y. Zhai, J. Du, and H. R. Zhai, Phys. Status Solidi C, 9, No. 1: 81 (2012). https://doi.org/10.1002/pssc.201084182
5. Ia. M. Lytvynenko, I. M. Pazukha, and V. V. Bibyk, J. Nano- Electron Phys., 6, No. 2: 02014 (2014).
6. G. Mandal, V. Srinivas, and V. V. Rao, J. Alloy. Comp., 484, Nos. 1-2: 851 (2009). https://doi.org/10.1016/j.jallcom.2009.05.058
7. C. Wang, X. Xiao, H. Hu, Y. Rong, and T. Y. Hsu, Phys. B, 392: 72 (2007). https://doi.org/10.1016/j.physb.2006.11.001
8. A. N. Pohorilyi, A. F. Kravets, E. V. Shypil, D. Y. Pod'yalovsky, A. Y. Vovk, C. S. Kim, M. V. Prudnikova, and H. R. Khan, Thin Solid Films, 423: 218 (2003). https://doi.org/10.1016/S0040-6090(02)01056-8
9. L. V. Odnodvorets, I. Y. Protsenko, Y. M. Shabelnyk, M. O. Shumakova, and O. P. Tkach, J. Nano- Electron. Phys., 8, No. 3: 03034 (2016). https://doi.org/10.21272/jnep.8(3).03034
10. I. M. Pazukha, O. V. Pylypenko, and L. V. Odnodvorets, Mater. Res. Express, 5, No. 10: 106409 (2018). https://doi.org/10.1088/2053-1591/aadb54
11. V. B. Loboda, S. M. Pyrogova, and S. I. Protsenko, Visnyk Sums'kogo DU, 3, No. 24: 74 (2001) (in Ukrainian).
12. S. S. Gorelik, L. N. Rastorguyev, and Yu. A. Skakov, Rentgenograficheskiy i Ehlektronograficheskiy Analiz Metallov [X-Ray and Electron Diffraction Analysis of Metals] (Moscow: GNTI: 1963) (in Russian).
13. W. Gasior, Z. Moser, and A. Debski, J. Alloy. Compd., 487: 132 (2009). https://doi.org/10.1016/j.jallcom.2009.07.160
 Все статьи доступны по Лицензии Creative Commons “Attribution-NoDerivatives” («атрибуция — без производных статей») 4.0 Всемирная ©2003—2021 НАНОСИСТЕМЫ, НАНОМАТЕРИАЛЫ, НАНОТЕХНОЛОГИИ Институт металлофизики им. Г.В. Курдюмова Национальной Академии наук Украины. Электронная почта: tatar@imp.kiev.ua Телефоны и адрес редакции О сборнике Пользовательское соглашение |